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　　碳化硅的制备方法主要有以下几种：

　　化学气相沉积法（cvd）：该方法是在高温下将含碳和含硅的气体反应生成碳化硅薄膜的方法。该方法制备的碳化硅薄膜具有高纯度、高密度和---的附着性等特点，但成本较高。

　　物理气相沉积法（pvd）：该方法是在真空条件下将碳和硅单质加热---温并蒸发成气体，然后在基底上凝结成碳化硅薄膜的方法。该方法制备的碳化硅薄膜具有高硬度和---的耐磨性等特点，碳化硅球价格，但成本也较高。

　　热压烧结法：该方法是将碳和硅单质在高温下热压烧结成碳化硅陶瓷材料的方法。该方法制备的碳化硅陶瓷材料具有高强度、高耐磨性和---的热学性能等特点，但生产周期较长。

　　自蔓延高温合成法（shs）：该方法是将碳和硅单质混合后引燃，湖北碳化硅球，利用燃烧产生的热量维持反应过程并合成碳化硅陶瓷材料的方法。该方法制备的碳化硅陶瓷材料具有高纯度、高密度和低成本等特点，但难以控制材料的形状和尺寸。

作为磨料，可用来做磨具，如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。作为冶金脱氧剂和耐高温材料。碳化硅主要有四大应用领域，碳化硅球厂家，即：功能陶瓷、耐火材料、磨料及冶金原料。目前碳化硅粗料已能大量供应，不能算---产品，而技术含量较高的纳米级碳化硅粉体的应用短时间不可能形成规模经济。

高纯度的单晶，碳化硅球生产厂家，可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。主要用途：用于3—12英寸单晶硅、多晶硅、钾、石英晶体等线切割。太阳能光伏产业、半导体产业、压电晶体产业工程性加工材料。主要用于制作砂轮、砂纸、砂带、油石、磨块、磨头、研磨膏及光伏产品中单晶硅、多晶硅和电子行业的压电晶体等方面的研磨、抛光等。

碳化硅制品可以分为很多类，根据不同的使用环境，分为不同的种类。一般使用到机械上比较多。在应用在密封环上：碳化硅陶瓷的耐化学腐蚀性好、强度高、硬度高，耐磨性能好、摩擦系数小，且耐高温，因而是制造密封环的理想材料。碳化硅的制品之一的碳化硅陶瓷具有的高硬度、高耐腐蚀性以及较高的高温强度等特点，这使得碳化硅陶瓷得到了广泛的应用。

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